因應AI系統的發展,半導體科技也需要從基層式晶片結構往小晶片製程邁進,依需求進行個別晶粒功能分配與模組化是2020年代初起發展高速計算能力的重要關鍵,此技術發展也帶來對製程微縮的大量需求,目前接點間距與精度要求分別來到2µm與200nm。隨著尺寸縮小,UPH與結構尺寸間的平衡已被打破,UPH重新變成業者亟待解決的挑戰,海德漢 MULTI-DOF 多自由度技術打開邁向更高精度與性能的大門。
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因應AI系統的發展,半導體科技也需要從基層式晶片結構往小晶片製程邁進,依需求進行個別晶粒功能分配與模組化是2020年代初起發展高速計算能力的重要關鍵,此技術發展也帶來對製程微縮的大量需求,目前接點間距與精度要求分別來到2µm與200nm。隨著尺寸縮小,UPH與結構尺寸間的平衡已被打破,UPH重新變成業者亟待解決的挑戰,海德漢 MULTI-DOF 多自由度技術打開邁向更高精度與性能的大門。