汎銓ALD鍍膜系統 保護光阻及高分子樣品不變形

一般分析在取樣過程中，須破壞試片的結構，進行奈米級的加工切片。在分析過程中，完整保留樣品的真實原貌，不破壞其中微小的製程差異，要有妥善的樣品保護工法。汎銓開發ALD鍍膜系統，是製備最嚴苛的TEM樣品解決方案，在最脆弱的光阻或高分子樣品，也能獲得良好的保護，準確進行驗證，突顯無損傷分析的價值。