柳紀綸表示，ALD真空鍍膜技術在市場行之有年，晶圓廠使用大型ALD設備，為高溫製程，而汎銓研發小型ALD設備及樣品製備工法，用於分析實驗室，為接近常溫的低溫設計，產出速度快，是兩者最大的不同。
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