開光罩，進行曝光、蝕刻及顯影等黃光製程，幾乎是半導體製造行之多年的公式。但基於成本及良率考量，以及先進封裝的堆疊複雜性提高，限縮黃光的適用性時，便突顯了SlJ微米精密噴塗設備的重要性。
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