汎銓新增二次離子質譜儀 SA表面分析利器

基於「結合精準的空間解析及濃度解析，畢其功於一役」的想法，汎銓今年新增多部設備，待近期完成分析驗證後，將正式展開業務，半導體、LED、III-IV族等光電產業大廠，在製程摻雜離子(電性參數)及汙染物的監控，可獲得精準快速且高品質的分析服務。

汎銓也會投入研發能量，針對SIMS分析技術的新製程試片與特殊需求，研發新工法，解決客戶在表面分析的各種難題，在先進製程研發路上順利推進。